近年歐美對俄羅斯實施制裁，晶片生產需要用到的曝光機（或稱為光刻機）也因此無法進口需要自家研發。最近俄羅斯就成功研發可以製作 350nm 晶片的曝光機。
俄羅斯方面在 2022 年開始開發國產曝光機，並曾經表示可以在 2028 年生產能夠製作 7nm 晶片的設備，最近就宣佈首部製成品已經完成並正在測試中，俄羅斯聯邦工業和貿易部副部長 Vasily Shpak 在 CIPR 會議期間表示，俄羅斯的下一步目標是在 2026 年前製造支援 130nm 工藝的曝光機，之後再逐步邁向 90nm 製程。
350nm 製程與目前已經邁向 2nm 製程的先進晶片有很遠距離，不過對於武器、家庭電器、能源和通訊等範疇仍然有一定的實用價值，並不需要使用先進製程，因此能夠自家製作晶片製造設備也是重要一步，當然晶片生產過程複雜，除了曝光機之外還有大量其他相關工序，要生產更高要求的先進晶片的目標仍然遙遠。
來源：DigiTimes
華為自主研發 AI 晶片 首席營運官聲稱性能超越 NVIDIA 【COMPUTEX 2024】MediaTek 推出兩款 AI 晶片 支援高階 Chromebook + 4K 顯示裝置 Nvidia 宣佈每年更新 AI 晶片 應對 AI 產業快速發展