根據美國媒體報道，美國準備對電子設計自動化（EDA）軟件實施出口限制，期望可以削弱中國製造先進晶片的能力。美國科技新聞網站 protocol.com 指出，拜登政府數個月來一直在權衡出口禁令，現在已經決定並指示商務部公布新規定，新的出口限制將在未來幾週內實施，目前該案正在美國行政管理和預算局進行審核，有關細節尚待確定。
艾斯摩爾（ASML）的極紫外光（EUV）微影設備是晶片所需的設備，全球只有艾斯摩爾能夠製造，而早前美國更說服荷蘭，禁止艾斯摩爾（ASML）將極紫外光（EUV）設備售給中國。
美國晶片製造設備大廠科林研發（Lam Research）和科磊（KLA）上週證實，已接到美國商務部的通知，要求他們不得向中國出售可用來製造 14 納米以下晶片的設備。
EDA 是晶片設計中不可或缺的技術，這些產品最終將發送給英特爾（Intel）、台積電（TSMC）或三星（Samsung）等晶片製造商製造，目前並不清楚這項出口禁令會對益華電腦（Cadence）和新思科技（Synopsys）等 EDA 軟體製造商的營運造成怎樣的影響。
資料來源：自由財經
圖片來源：ROI4C10
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