隨着晶片需求增加，先進製程晶片生產使用的曝光機也成為炙手可熱的器材，不過 ASML 最新推出的 High-NA EUV 曝光機就相當昂貴，連台積電也因此不打算短期內購入。
據報導指，台積電業務開發資深副總裁張曉強在一個研討會上表示，他喜歡 High-NA EUV 曝光機的性能，但不喜歡它的價格，認為成本非常高。是否採用最新的技術視乎於其成本以及可以帶來的收益，目前台積電打算在 2026 年第投入生產的 A16 節點技術並不需要用到 High-NA EUV 曝光機，現有器材已經可以做到，因此並不急於引入新器材。
據稱 ASML 最新的 High-NA EUV 曝光機每部成本 3.5 億歐元，雖然台積電等大型客戶並未打算購入，但 Intel 則已經率先下了訂單買起全年產能，早前更已經完成首部 High-NA EUV 曝光機的組裝，雖然 Intel 方面並不打算即時投入使用，最快也等到明年才開始試產。
來源：TNW
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