隨着晶片需求增加,先進製程晶片生產使用的曝光機也成為炙手可熱的器材,不過 ASML 最新推出的 High-NA EUV 曝光機就相當昂貴,連台積電也因此不打算短期內購入。
據報導指,台積電業務開發資深副總裁張曉強在一個研討會上表示,他喜歡 High-NA EUV 曝光機的性能,但不喜歡它的價格,認為成本非常高。是否採用最新的技術視乎於其成本以及可以帶來的收益,目前台積電打算在 2026 年第投入生產的 A16 節點技術並不需要用到 High-NA EUV 曝光機,現有器材已經可以做到,因此並不急於引入新器材。
據稱 ASML 最新的 High-NA EUV 曝光機每部成本 3.5 億歐元,雖然台積電等大型客戶並未打算購入,但 Intel 則已經率先下了訂單買起全年產能,早前更已經完成首部 High-NA EUV 曝光機的組裝,雖然 Intel 方面並不打算即時投入使用,最快也等到明年才開始試產。
來源:TNW
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