《路透社》引述消息指，中國近期在深圳高戒備實驗室內，完成一台極紫外光 EUV 光刻機原型，引起半導體業界關注。EUV 光刻機是目前生產高階 AI 晶片與手機處理器最關鍵裝置，一直由荷蘭 ASML 壟斷。這台原型機暫時只能成功產生 EUV 光，尚未能實際量產可用晶片，但已令外界重新評估中國在高階晶片製造領域追趕西方的時間表。
中國以中央層面主導這次被形容為「中國版曼哈頓計畫」的項目，目標利用國產裝置生產高階晶片，削弱美國與盟友透過出口管制限制中國晶片能力的影響。ASML 早在 2006 年做出 EUV 原型，直到 2019 年才正式商用；中國則自 2019 年起集中資源，約 6 年就拼湊出能產生 EUV 光的原型，顯示在逆向工程與招攬人才方面取得進展。
報導指深圳實驗室內這台原型機幾乎佔滿一整層工廠，由多名曾在 ASML 工作的華人工程師以逆向工程方式重建 EUV 系統。部分零件疑似來自二手市場舊 ASML 裝置及中介公司轉手購入的受管制部件，並混合 Nikon 與 Canon 等裝置零件，再由本土研究機構配合整合。同時部分 Huawei 研究人員長期駐守園區，被要求使用化名並限制對外聯繫，內部團隊互相隔離以保持項目高度保密。
現階段原型機距離真正商用仍有明顯距離。知情人士透露，雖然裝置已能穩定產生 EUV 光束，但在關鍵精密光學系統方面仍落後德國 Carl Zeiss 等西方供應商。整體體積遠比 ASML 商用機龐大，功能亦未能刻蝕出可用電路。中國官方目標是在 2028 年於國產 EUV 上生產高階晶片，惟內部與外部多數評估認為較現實時間點可能要到 2030 年左右，其後還要再用多年時間才有機會追上 ASML 在產能、良率與成本方面的優勢。
目前全球只有 ASML 真正商用 EUV 光刻機，每台售價約 2.5 億美元（約港幣 19.5 億元）。這對 TSMC、Intel 及 Samsung 生產 3 奈米級 AI 與手機晶片不可或缺。美國自 2018 年起施壓荷蘭政府禁止向中國出口 EUV，其後連較舊 DUV 機款亦收緊管制。分析認為若中國最終建立起可用甚至量產級國產 EUV，除了會削弱西方出口管制威力，也可能重塑全球晶片供應鏈與價格結構，對台灣、韓國及荷蘭等半導體重鎮帶來深遠影響。然而現時原型機仍未能量產晶片，短期內衝擊主要屬於心理與地緣政治層面。
資料來源：Reuters