台積電日前爆出 2nm 機密外洩，內部調查後即刻開除涉案現職與前員工，案件已進入司法程序，而被認為獲得了機密的東京威力科創之前表示會配合調查，有報導指社長將會在 9 月訪台與台積電高層會面。
報導指，今次外洩資料疑似流向台積電設備供應商東京威力科創 （Tokyo Electron）；市場傳聞其社長河合利樹將於 9 月 SEMICON Taiwan 期間專程拜會台積電高層，研議後續事宜。業界分析，若證實第三方受益，台積電不排除循民事途徑求償。
有關當局指出，離職工程師陳姓男子勾結吳姓員工，自去年起多次遙距登入公司內網，於 3 分鐘內快速查閱 2nm 關鍵製程資料，再以手機翻拍，上千張相片在竹科 Starbucks 交給對方。檢察官認定涉案人等犯嫌重大，恐有勾串及滅證之虞，向智慧財產法院聲押並獲准。
台灣國家科學及技術委員會將 14nm 以下製程列為「國家核心關鍵技術」，凡竊取相關營業祕密，最高可處 12 年徒刑及新台幣 1 億元罰款。高檢署檢察總長邢泰釗透露，近三年營業祕密案不起訴率雖高達 70%，但真正起訴後有罪率達 68.7%，顯示一旦掌握完整蒐證，定罪機率不低。
產業顧問指，台積電計劃年底前量產 2nm 製程晶片，為 Apple、Nvidia 等大客戶供應核心晶片；技術一旦外流，恐動搖台灣在先進製程的領先優勢。專家呼籲企業加強內網行為監控與員工保密教育，並與司法單位建立快速取證機制，才能真正守住「技術護城河」。
來源：科技新報
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