光刻機

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  俄羅斯計劃自研 EUV 光刻機 擬挑戰 ASML 成本更低更易製造

  12 個月前

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  俄羅斯成功研發國產曝光機　可用於製作 350nm 晶片將於 2028 投產

  2 年前

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  中國 28nm 光刻機年底交付　望突破美日荷封鎖

  2 年前

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  美國傳向荷蘭施壓 禁 ASML 向華為出售晶片生產設備

  3 年前

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