近年來，大部份的新 iPhone 一直都保持著同樣的「M 字額」造型，不過 Apple 最近已成功申請多項的專利，當中包括把 Touch ID 與 Face ID 整合到屏幕底層，透過屏幕表面就能進行識別，相信新的 iPhone 將能告別「M 字額」設計。
早前，美國專利商標局 ( USPTO ) 在其官網公布了 Apple 申請成功的 77 項專利，其中一項專利是組合於屏幕背板中的光電探測器，能把 Touch ID 與 Face ID 整合到屏幕底層，如成功應用技術，能推出屏上無孔識別 Touch ID 及 Face ID 的iPhone。
What do you guys think of this progression? Should Apple introduce a punch-hole design next year or wait until they can get rid of the notch completely? pic.twitter.com/aaW2x3hk4k
— Apple Hub (@theapplehub) March 4, 2021
據報，Apple 的最新專利，透過在顯示器層棧中嵌入一個光檢測層，把一系列光和電的感應器，分佈在顯示器的顯示區域內與其周圍，從而檢測觸摸顯示器的物體影像，適用於基於光學成像系統的 Touch ID， 從而實現屏幕上的指紋識別。
據悉，多項專利包括有關於光線的感應及生物識別傳感器，例如相機、光場感應、深度感應、指紋成像、虹膜和視網膜成像系統等，而光電探測器更能用於健康監測，為用戶量度心電圖(ECG)、脈搏或眼科掃描等。在補充說明中，似乎有大量的感應器都能，像是觸控感應、力度感應、生物識別測量等。
在疫情下口罩令 Face ID 的使用相對不便，而 Apple 成功申請的專利越來越多，或許能使 iPhone 實現無實體鍵的Touch ID 及完全去除「M 字額」。
資料來源 : Wccftech
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