上海微電子裝備集團（SMEE）在 11 月 5 日至 10 日舉行的第九屆中國國際進口博覽會，展示 SSC800 與 SSB800 兩款前道乾式掃描投影光刻機的模型。公司表示，相關設備關鍵零件國產化率已超過 90%，多台設備已在中國晶片廠運作，累計支援超過 1,000 萬片晶圓投片。展場展示的是模型，並非實際運作的光刻機。
SSC800 與 SSB800 展出透明模型 展示國產光學及機電系統
上海微電子在中國館展出的 SSC800、SSB800 模型採用透明剖面設計，讓參觀者看到光路、機電系統及內部結構。兩個系列分別採用 KrF 與 I-line 曝光技術，屬前道乾式光刻設備，主要服務成熟製程晶片生產。
據上海微電子介紹，設備採用自行研發的高精度投影物鏡及照明系統、高速雙工件台、光罩台、自動物料傳輸系統，以及高精度對準和調平感應器。廠方稱相關核心技術已實現自主研發，關鍵零件國產化率超過 90%。這個百分比針對關鍵零件，不能直接理解為整機每一項零件均有相同比例的國產來源。
廠方稱量產設備累計支援逾千萬片晶圓 有效運行率超92%
上海微電子表示，SSC800 及 SSB800 系列已完成產品定型並進入規模化量產階段，多台設備在中國大型邏輯晶片及記憶體晶片生產線長期運作。公司公布，相關產線累計處理的晶圓超過 1,000 萬片，設備有效運行率超過 92%。
上海微電子亦聲稱，旗下前道乾式光刻機的曝光成像表現已接近國際同類領先產品，惟套刻精度及生產效率仍在追趕國際標準。上述生產量、有效運行率及效能比較均是公司披露的資料，目前未見公開的完整獨立測試結果，不能將其視為第三方認證。
SSC800 支援110nm製程 與 ASML 高階 EUV 設備不同級別
上海微電子兩個系列的曝光技術與適用製程不同，SSC800 採用 248nm KrF 光源，官方產品定位為 110nm 或以上製程；SSB800 採用 365nm I-line 光源，適用於 280nm 或以上製程。兩者主要服務記憶體、微處理器、功率半導體、模擬晶片及微機電系統等用途。
| 型號 | 曝光技術 | 適用製程 | 主要用途 |
|---|---|---|---|
| SSC800 | KrF（248nm） | 110nm 或以上 | 記憶體、微處理器、Micro LED |
| SSB800 | I-line（365nm） | 280nm 或以上 | 功率半導體、模擬晶片、MEMS |
成熟製程晶片仍廣泛用於工業控制、汽車電子及電源管理，但相關光刻設備與最先進晶片使用的技術並不相同。ASML 既提供 KrF、I-line 等乾式設備，亦提供 ArF 浸潤式 DUV 及 EUV 光刻系統。上海微電子本次展示的型號，不能直接與 ASML 的高階 EUV 光刻機比較，也不能據此推斷中國已取得最先進製程光刻技術。
ASML 缺席今年進博會 據報與內部全球會議撞期
ASML 今年沒有參加上海進博會。《觀察者網》11 月 9 日報道，ASML 自 2020 年起連續六屆參展，公司對缺席本屆展覽的解釋是展期與內部全球會議撞期。現時沒有證據證明 ASML 因上海微電子展出的光刻機模型感到恐慌，兩件事不應混為一談。
對中國半導體產業而言，國產設備能否在成熟製程產線長期穩定運作，以及零件供應能否維持，直接影響晶片廠的設備採購選擇。上海微電子公布的國產化及運行數據值得關注，惟設備穩定性與高階製程能力仍須分開評估。
資料來源：上海證券報、TrendForce、觀察者網、ASML
