在晶片製造過程之中，曝光機是相當重要的存在，荷蘭 ASML 就是這方面的龍頭企業，最近正式公開 High-NA EUV 微影曝光設備，進一步提升晶片生產技術。
ASML 早前終於向外界公開其次世代 TWINSCAN EXE:5000 曝光機（光刻機），採用新一代的 High-NA EUV 微影曝光技術，重量達到 165 公噸，造價 3.8 億美元，是上代 Low-NA EUV 曝光機差不多 2 倍價錢。ASML 表示，新一代曝光機可以打印 8 納米的圖案，比上代密度提升 1.7 倍，每小時可生產 185 個晶圓。
這樣龐大的機器需要由 250 名工程師在實地組裝，而且需要 6 個月。去年 Intel 已經購入一部 TWINSCAN EXE:5000，不過在 2025 年之前都不會用於生產。而台積電方面仍然未有計劃升級曝光機，可能正在等待更先進的產品推出才一次過投資，也就是 Hyper NA 技術，預計在 2030 年左右推出。
來源：Extreme Tech
